Charakterisierung von epitaktisch auf InP abgeschiedenen GaxIn₁-xAs-Schichten (0.45<x<0.49) mittels Photolumineszenz und Doppelkristall - Röntgendiffraktometrie
Charakterisierung von epitaktisch auf InP abgeschiedenen GaxIn₁-xAs-Schichten (0.45<x<0.49) mittels Photolumineszenz und Doppelkristall - Röntgendiffraktometrie
Details
- OL Work ID
- OL42102164W